中国芯片技术的“瓶颈”是什么？

今天917教育网小编为大家带来了中国芯片技术的“瓶颈”是什么？，希望能帮助到大家，一起来看看吧！

本文目录一览：

• 1、光刻机技术加速突破，美专家：ASML的时代正在结束
• 2、中国芯片技术的“瓶颈”是什么？
• 3、中国光刻胶上市十大排名

光刻机技术加速突破，美专家：ASML的时代正在结束

众所周知，光刻机是生产芯片的必要设备；虽然说一颗小小的芯片看上去只有指甲盖大小，但是在芯片的内部却含有上亿个晶体管线路，想要完成芯片的生产，靠人眼很显然是无法完成的，而光刻机利用极紫外光源等技术就可以轻松的完成芯片的生产；目前全球领先的光刻机技术几乎都被荷兰ASML公司所垄断，随着市场需求的不断增加，也让荷兰ASML公司赚得是盆满钵满！

光刻机有钱也买不到

作为光刻机领域得分霸主企业，ASML公司的手中也掌握着很多先进的光刻机生产技术，其生产的EUV光刻机是生产7nm工艺以下芯片的必要设备，依靠着EUV光刻机，台积电和三星都已经实现了7nm和5nm芯片的大规模量产；虽然说一台先进的EUV光刻机的售价高达10亿，但在市场上依然是供不应求的，而且有钱也并不一定能买到EUV光刻机！

ASML光刻机出货受限

我国 科技 企业很早就向ASML公司预定了一台EUV光刻机，但一直到现在也没有发货，而这一切都是因为ASML公司生产的光刻机核心技术中含有美国技术，所以ASML公司光刻机的发展也需要受到美国的限制；值得一提的是ASML公司在老美的要求下，还将总部搬到了美国市场办公，这也将更加限制住ASML公司生产的EUV光刻机的出货！

美专家：ASML的时代正在结束

要知道，老美在多次修改芯片规则以后，也导致全球芯片市场都出现了短缺的情况，这一次全球市场的“芯片荒”也直接让大家都认清了老美的真面目，并意识到了发展半导体产业的重要性，所以中国、日本、欧盟都国都在大力的发展自主芯片产业链，并加快了对光刻机技术的突破，对此美专家也表示：ASML的时代正在结束！美专家之所以这么说，主要还是因为有以下几方面的原因！

光刻机技术加速突破

首先，ASML公司在相关规则的限制下，一直都无法自由出货，这将严重的影响ASML公司在全球光刻机市场上的发展，这也将直接倒逼着大家都开始加速研发光刻机的脚步，其中日本的佳能和尼康这两个老牌的光刻机巨头企业已经宣布将重新进入光刻机领域发展，最快将在2023年研发出一台先进的3D光刻机，另外，还有俄罗斯也正在计划研发先进的光刻机技术，并使用比ASML公司所生产的EUV光刻机使用的极紫外光源波长更短的X射线来研发光刻机；可以说日俄所研发的光刻机技术都是要比ASML公司的光刻机技术更加先进的！

另外，还有台积电、三星、苹果等芯片厂家也在加快对封装工艺技术的研发，想要以此来摆脱对台积电已经ASML公司光刻机的依赖，在先进封装工艺技术的加持下，苹果已经利用重叠技术将两块芯片给封装在一起，并实现了性能的超越，而我国的华为也正在研究这一重叠技术，有了这一技术以后，那么也技能有效的降低对ASML公司EUV光刻机的依赖！

最后，新的芯片技术和材料也正在加速发展中，让EUV光刻机的时代也正在逐渐走向结束；要知道，现在的半导体芯片的发展都是需要遵循摩尔定律的，当达到了1nm以后就逼近了物理极限，所以科学家也一直在研发新的替代技术和材料，其中光电芯片就已经成为了很多国家 科技 团队所研发的重点，只要下一代芯片技术取得突破，那么依赖于光刻机的半导体芯片也将被逐步淘汰；所以综合来看，在未来的芯片市场上，光刻机不会再那么的重要，而ASML公司也不会再一家独大，正如美专家所说：ASML的时代正在结束！

中国芯片技术的“瓶颈”是什么？

中国芯片技术的“瓶颈”是中国在 芯片技术领域 没有核心技术和自主研发能力 ，没有主导芯片从材料、设计到生产制备的全套技术中任何一个环节。

中国科学院院士 、湖南先进传感与信息技术创新研究院院长彭练矛16日在湖南湘潭表示，针对中国 半导体材料 、制造工艺和芯片设计落后的状况，碳基电子大有所为，其对国产芯片技术突围具有重要价值和意义。

“没有芯片技术，就没有中国的现代化。实现由中国主导芯片技术的‘直道’超车，就是碳基电子的定位和使命。”彭练矛表示，碳基电子的 终极使命 就是在现有优势下扬长避短，从材料开始，全面突破现有的主流半导体技术，研制出中国人完全 自主可控 的芯片技术，在主流芯片领域产生重要影响。

扩展资料：

15日至17日，由湖南先进传感与信息技术创新研究院承办的“碳基材料与信息器件研讨会”在湘潭召开，北京大学、 清华大学 、浙江大学、 国防科技大学 、中国科学院微电子研究所、电科集团等中国高校、科研机构以及企业的170余名代表参会。

彭练矛在会上作了题为“碳基电子的定位和使命”的主题报告。

参考资料来源： 和讯网－中科院院士彭练矛：碳基电子是国产芯片技术突围利器

917教育网

中国光刻胶上市十大排名

917教育网(https://www.917edu.com)小编还为大家带来中国光刻胶上市十大排名的相关内容。

一、晶瑞股份

核心逻辑：进口替代助力业绩增长，国产光刻胶核心标的。

晶瑞股份是国内技术领先的微电子化学品龙头，产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池粘结剂等。

二、上海新阳

核心逻辑：半导体业务驱动21Q1经营业绩高增长，购买光刻机布局高端光刻胶项目。

上海新阳为拓展业务范围及产品应用领域，投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。

三、南大光电

核心逻辑：ArF光刻胶认证通过，国产材料持续推进。

南大光电主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施

四、扬帆新材

公司是全球光引发剂重要供应商，公司主要的光引发剂品种众多，其中部分产品可以用于光刻胶生产领域。

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